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                NANONEX高分辨率光刻/對準器

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                MVE液氮罐6000
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                上海閥高閥門有限公司為您提供nanonex高分辨率光刻/對準器。納米壓印nanonex高分辨率光刻/對準器 lumina系列為電子,光電,mems和許多其他應用中的高分辨率,對準,接觸和接近光刻提供了高質量,-且經濟-的解決方案。 它具有易于使用的界面,-的載物臺,-的光學元件和較小的占地面積。
                nanonex lumina-200納米壓印主要特點
                高分辨率光刻
                -對準平臺
                -的對準光學
                間隙控制
                用戶友好的pc控制
                占地面積小
                具有成本效益的設計
                背面對齊可選
                應用領域:半導體器件 *微機電系統 *光電子學 -*包裝 *電力設備
                納米壓印nanonex高分辨率光刻/對準器技術參數
                手冊x-y-?
                帶稱重傳感器的電動z
                移動范圍: x和y:1英寸
                ?:10度
                z:0.25英寸
                掩膜加載能力
                5”口罩標準
                其他尺寸可選
                基板裝載能力
                4”標準
                其他尺寸可選
                對準 模式:接近、柔和、硬
                對準光學
                分割欄 5倍物鏡,1到7倍變焦
                2個獨立的手動x,y,z顯微鏡移動 精細粗調
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